含氟聚酰亚胺特别是含三氟甲基聚酰亚胺因具有极好的溶解性、低介电常数、高度光学透明性、较好的耐热性和力学性能等特点引起研究者越来越多的研究兴趣。基团的引入增加了聚酰亚胺主链的空间位阻，降低了分子链间的相互作用，增强了分子链柔韧性；其次，基团的引入可以破坏聚酰亚胺的结构规整性，降低分子结晶性，使其具有良好的溶解性能，改善了传统聚酰亚胺材料难溶、难以成型加工的缺点。 基团固有的憎水性能以及C-F键之间较低的摩尔极化率能进一步降低聚酰亚胺材料的介电常数；此外，F原子的半径小、电负性大，使之具有较强的吸电子作用以及电子诱导作用，有效阻止了聚合物分子链内电荷转移络合物的形成，从而提高其光学性能。含三氟甲基聚酰亚胺的一系列优异性能使其在低介电性材料、光学装置、波导材料、气体分离膜和溶剂分离等领域具有广泛的应用。

  不同结构三氟甲基基团对聚酰亚胺性能F3C CF，的影响侧重点不一致，3F基团能够增加聚合物的自由体积，因此能增加其对气体的吸收并提高其介电性能；6F基团在不改变聚合物热稳定性的同时可以增强聚合物溶解性。随着F原子的增加，含9F基团聚合物的光学性能得到很大改善。含三氟甲基单体的合成比较困难，是制备含三氟甲基聚酰亚胺的关键步骤。含三氟甲基二酐单体的制备由于合成过程的复杂性和可用原料种类少限制了其发展。目前合成二酐单体的一般过程是由含一CF。基团原料开始，经过偶联、氧化、水解及酸酐化等一系列反应得到产物。

  合成二胺单体常用的方法是“两步法”：首先，通过含三氟甲基酚与卤代硝基苯或含三氟甲基卤代硝基苯与二酚的反应制备二硝基化合物；然后利用二硝基化合物还原生成二胺化合物。随着新型含三氟甲基聚酰亚胺单体的不断更新，合成方法也在不断改进。最近，Wang Chenyi等，一甲基苯胺和4一三氟甲基苯甲醛为反应原料，HC1为催化剂，反应温度调节到150℃ ，在氮气保护下一步合成 ， 二(4一氨基一3一甲基苯基)一4一三氟甲基甲苯二胺单体，基于此单体合成聚酰亚胺材料具有极好的溶解性、可加工性和光学透明性。