PW-1500S型聚酰亚胺薄膜的制作过程如下：

（1） 先用丙酮对2英寸的BF33硼硅玻璃基底超声清洗15 min，再用无水乙醇超声清洗15 min，最后用去离子水

超声清洗2次，每次10 min，清洗完后将其放在110 ℃的烘箱中烘30 min；

（2） 用匀胶机（KW-15，中国科学院微电子研究所）旋涂PW-1500S型聚酰亚胺前驱体，低速为300 r/min、时

间为10 s，高速为1 200 r/min、时间为40 s；

（3） 在热板（AI-508T，中国电子科技集团第十三研究所）上对薄膜进行前烘，温度为120 ℃，时间为3 min；

（4） 在高温氮气烘箱（SG-HX500，中国科学院上海光学精密机械研究所）中对薄膜进行固化，固化参数为：50 ℃、30 min，140 ℃、30 min，350 ℃、60 min，升温速率为3.5 ℃/min，整个过程需要氮气保护，固化后随炉冷却。

FB-5410型和ZKPI-520型聚酰亚胺薄膜的制造过程与PW-1500S型聚酰亚胺薄膜的制作过程完全相同，只是聚酰亚胺前驱体的旋涂工艺参数和前烘工艺参数略有不同。

FB-5410 型聚酰亚胺前驱体的旋涂工艺参数为：低速为600 r/min、时间为9 s，高速为1 400r/min、时间为40 s；前烘工艺参数为：温度为115 ℃、时间为3 min。ZKPI-520型聚酰亚胺前驱体的旋涂工艺参数为：低速为600 r/min、时间为9 s，高速为1 200 r/min、时间为40 s；前烘工艺参数为：温度为110 ℃、时间为70 s。