由于以Kapton和F46 柔性材料为基底的二次表面镜在卫星上起着重要的热控作用, 所以对它们直接暴露在空间那一边的高绝缘表面的改性, 不仅要满足防静电积累的要求,还必须兼顾它们的光学性质, 不能因表面改性而降低它们的热控效果. 因而对所制备的导电膜除了测其膜电阻外, 还进行了光透过率和发射率的测量. 膜电阻测量按部标QJ-2306“ 空间环境下材料表面电阻测试方法”规定的内容进行. 膜的透过率用P-E 紫外可见红外分光光度计测量, 发射率用美国A E 发射计测量。

  考虑到Kapton等柔性二次表面镜在制备有抗静电膜后, 在贮存、运输、卫星总装以及空间应用各阶段都可能造成对导电膜性能的影响, 因此检验所制备的导电膜性能的稳定性也是极为必要的. 美国GE 公司和sheldhal公司在这方面进行了相当细致的工作，还制定了试验规范. 参照他们的工作, 甚至部分试验还在更为苛刻的条件下完成了对新研制的导电膜的稳定性评估试验。

  通过对三种导电膜系的各种评价试验, 充分表明了利用平面磁控溅射方法在优选的工艺参数条件下, 可以制备出性能优良的抗静电导电膜. 而且电学性质和光学性质具佳.特别TO膜不须经高温后处理即可达到与ITO、IO膜相同的性能, 这一工艺研究结果对降低成本带来了很大好处。